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ISSN 0544-1269 (Print)
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Palavras-chave Förster effect bipolar transistor diagnostics etching gas temperature ionization kinetics magnetron sputtering mechanism memristor modeling molecular beam epitaxy plasma polymerization powerful LDMOS quantum dot reduced electric field strength resistive switching silicon silicon-on-insulator technology specific power
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Volume 54, Nº 4 (2025)

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Volume 54, Nº 4 (2025)

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Informaçao sobre o Autor

Shengurov, V. G.

Edição Seção Título Arquivo
Volume 53, Nº 3 (2024) INSTRUMENTATION Development of the Ge-MDST instrument structure with an induced p-type channel
Volume 54, Nº 4 (2025) TECHNOLOGIES MULTILAYER EPITAXIAL SILICON STRUCTURES WITH SUBMICRON LAYERS GROWN BY SUBLIMATION MOLECULAR BEAM EPITAXI
 

 

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